zycgr22011903原子层刻蚀设备(ALE)（第二次）公开招标公告-上海市招标采购-建设招标网

zycgr22011903原子层刻蚀设备(ALE)（第二次）公开招标公告

2025-11-26 上海-浦东-

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所在地区：	上海-浦东-	发布日期：	2025年11月26日
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招标采购正文

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<div>项目概况原子层刻蚀设备(ALE) 招标项目的潜在投标人应在中化商务电子招投标平台(ebid.sinochemitc.com)（本项目采购文件一律通过线上登记方式获取）。获取招标文件，并于(略)年(略)月(略)日 (略)点(略)分（北京时间）前递交投标文件。</blockquote>一、项目基本情况项目编号：(略)项目名称：(略)预算金额：(略)最高限价（如有）：(略)采购需求：<li>采购需求一览表：</li></ul><table><tbody><tr><td>包件号</td><td>包件名称</td><td>标的名称</td><td>数量</td><td>预算（万元）</td><td>交货期</td><td>交货地点</td><td>简要技术要求/项目基本概况/用途：</td><td>是否允许进口产品投标</td></tr><tr><td>1</td><td>原子层刻蚀设备(ALE)（第二次）</td><td>原子层刻蚀设备(ALE)（第二次）</td><td>1台</td><td>(略)</td><td>合同签订后6个月内具备发货条件，在收到采购人发货通知后2个月内送达采购人指定地点。</td><td>采购人指定地点</td><td>采购1台原子层刻蚀设备(ALE)，ALE是实现纳米级超高精度、高选择比及低损伤刻蚀工艺的革命性先进装备，其核心优势在于采用自限制性表面化学反应机制，通过周期性暴露前驱体与反应气体实现单原子层级别的材料去除，彻底避免传统等离子刻蚀的离子轰击损伤与各向异性失控问题。设备具备亚埃级刻蚀精度与近乎无限的选择比，可应对极高深宽比结构及敏感材料的加工需求；腔室配备多路气体注入系统与等离子体源，工艺参数可独立精确调控以适配金属、介质层及复合材料的刻蚀要求。该设备是实现器件关键结构原子级制造与性能优化的核心装备。</td><td>否</td></tr></tbody></table><li>是否专门面向中小企业或小型、微型企业采购：(略)</li></ul>注：(略)合同履行期限：(略)本项目(不接受)联合体投标。二、申请人的资格要求：1.满足《中华人民共和国政府采购法》第二十二条规定；2.落实政府采购政策需满足的资格要求：无3.本项目的特定资格要求：(略)三、获取招标文件时间：(略)地点：(略)方式：(略)售价：(略)四、提交投标文件截止时间、开标时间和地点提交投标文件截止时间：(略)开标时间：(略)地点：(略)五、公告期限自本公告发布之日起5个工作日。六、其他补充事宜投标文件的递交：(略)2.本项目公开开标，届时邀请投标人的代表出席开标仪式。3.评标方法和标准：(略)4.本项目招标公告内容以省级以上财政部门指定媒体发布的公告为准。5.本项目需落实的政府采购政策：（1） 执行节能产品政府优先采购和强制采购制度；（2） 执行环境标志产品政府优先采购制度；（3） 执行《政府采购促进中小企业发展管理办法》；（4） 执行《关于政府采购支持**企业发展有关问题的通知》；（5） 执行《关于促进残疾人就业政府采购政策的通知》。“项目概况和一、项目基本情况：(略)项目概况原子层刻蚀设备(ALE)（第二次）的潜在投标人应在中化商务电子招投标平台(ebid.sinochemitc.com) （本项目采购文件一律通过线上登记方式获取）获取招标文件，并于(略)年(略)月(略)日(略)：(略)一、项目基本情况：项目编号：(略)项目名称：(略)预算金额：(略)最高限价：(略)采购需求：<li>采购需求一览表：</li></ul><table><tbody><tr><td>包件号</td><td>包件名称</td><td>标的名称</td><td>数量</td><td>预算（万元）</td><td>交货期</td><td>交货地点</td><td>简要技术要求/项目基本概况/用途：</td><td>是否允许进口产品投标</td></tr><tr><td>1</td><td>原子层刻蚀设备(ALE)（第二次）</td><td>原子层刻蚀设备(ALE)（第二次）</td><td>1台</td><td>(略)</td><td>合同签订后6个月内具备发货条件，在收到采购人发货通知后2个月内送达采购人指定地点。</td><td>采购人指定地点</td><td>采购1台原子层刻蚀设备(ALE)，ALE是实现纳米级超高精度、高选择比及低损伤刻蚀工艺的革命性先进装备，其核心优势在于采用自限制性表面化学反应机制，通过周期性暴露前驱体与反应气体实现单原子层级别的材料去除，彻底避免传统等离子刻蚀的离子轰击损伤与各向异性失控问题。设备具备亚埃级刻蚀精度与近乎无限的选择比，可应对极高深宽比结构及敏感材料的加工需求；腔室配备多路气体注入系统与等离子体源，工艺参数可独立精确调控以适配金属、介质层及复合材料的刻蚀要求。该设备是实现器件关键结构原子级制造与性能优化的核心装备。</td><td>否</td></tr></tbody></table><li>是否专门面向中小企业或小型、微型企业采购：(略)</li></ul>注：(略)合同履行期限：(略)本项目不接受联合体投标。七、对本次招标提出询问，请按以下方式联系。1.采购人信息名 称：(略)地址：(略)联系方式：(略)2.采购代理机构信息名 称：(略)地　址：(略)联系方式：(略)3.项目联系方式项目联系人：(略)电　话：(略)</div></div>

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